실시간 모니터링: 포괄적인 데이터 수집 및 프로세스 제어, 장비 상태, 공정 매개변수, 주문 진행 상황을 전체적으로 시각화합니다.

MES 시스템은 도금 전체 프로세스의 폐쇄 루프 제어를 구현하며, 네 가지 주요 차원을 포괄합니다:

전체 추적: 각 배치 제품은 도금 시간, 전류 밀도, 화학 물질 소비와 같은 주요 매개변수를 정확하게 추적할 수 있습니다.

폐쇄 루프 최적화: 분석 보고서 자동 생성, 결함 식별 및 시정 조치 트리거, "감지-피드백-조정" 폐쇄 루프 형성.

안정적인 생산: 비정상 가동 중단 경고, 공정 편차 알림, 예방적 유지보수 알림.

실험실

산소 분석기

전 스펙트럼 스파크 직독 분광계

원자 흡수 분광 광도계

실험실

온라인 CCD 모니터링

X선 도금 두께 측정기

PLC 제어 및 간판